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  据启信宝，新三板立异层公司宇迪光学（831934）新增专利信息，专利权人为宇迪光学，发明人是冒建军、冒晶晶。专利授权日为2024年6月21日，专利名称为“一种流量可控式双面研磨机及平面镜加工设备”，专利类型为我国实用新型专利，专利申请号为CN4.9。

  该专利摘要显现：本实用新型归于平面镜加工的技术领域，详细触及一种流量可控式双面研磨机及平面镜加工设备。所述双面研磨机包含下研磨盘和上研磨盘，所述上研磨盘的上部周向上贯穿有若干个运送管且其顶部经过运送管连通有储液盘，所述储液盘内部装置有液位传感器且其顶部扣合有盖板，所述盖板上开设有输液孔并经过输液孔贯穿衔接有输液管，所述输液管经过输液孔贯穿盖板并延伸至储液盘内部且其端部经过储液盘与运送管连通设置，所述运送管的端部贯穿上研磨盘且其出口与下研磨盘连通设置。本实用新型无需人工判别运送流量，处理了因人工判别操作失误而形成研磨液或磨削液溢出对环境形成污染的问题，确保了平面镜的打磨作用以及双面研磨机的运用寿命。

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